OTF-1200X-4-NW是一種緊湊型CVD爐，專為生長各種納米線而設(shè)計，基片3英寸. 在法蘭的左側(cè)裝有一個小加熱器，可對輸入的氣體、液體、固體進行預加熱，然后 進入 CVD 爐進行納米線的生長, 可滑動的樣品架使操作更為簡單。
技術(shù)參數(shù)
名稱
生長納米線的CVD爐 --OTF-1200X-4-NW
視頻
工作溫度
CVD爐：
工作溫度：1100℃（<2hour）
連續(xù)工作溫度：200~1000℃
升溫和降溫速率：10℃/min
小加熱器：
連續(xù)工作溫度：0~500℃
升溫和降溫速度：10℃/min
加熱區(qū)
CVD爐：400mm
小加熱器：150mm
爐子和預加熱器
緊湊型CVD爐是由OTF-1200X-4單溫爐演變而來。
內(nèi)爐膛表面涂有美國進口的高溫氧化鋁涂層可以提高設(shè)備的加熱效率，同時也可以延長儀器的使用壽命
石英管：4.33” OD×4.05”ID ×15” L 工作溫度：1100℃
右邊帶樣品支架的法蘭是滑動的，方便操作在加熱器和CVD爐之間的法蘭是預加熱氣體的通道，同時也起密封作用。
在爐子左側(cè)的小加熱器是對輸入CVD爐的氣體、液體、固體或混合物進行預加熱。
1.2” OD×6”L SS作為加熱腔小加熱器工作溫度：600℃
左邊法蘭具有密封性和氣體通道的作用。
溫度控制
CVD爐和加熱器
PID/自整定的數(shù)字控制，具有30段可控程序
熱偶：K type
控溫精度：±1℃
K型熱電偶
可用計算機進行控制，相關(guān)硬件和軟件如下（選配）
真空和密封法蘭
CVD爐：右法蘭：
水冷避免O型圈融化（水冷機可選配）
KF25真空快接（可與真空泵、波紋管、真空閥等連接）
可滑動使客戶操作更簡單，樣品可快速送入和取出。
一個石英樣品支架（3”dia），與石英擋板滑動法蘭連成一體。
左法蘭（在CVD爐和小加熱器之間），裝有4個，1/4”卡套連接的通氣管。
法蘭上有兩個獨立1/4”口，可單獨將任何氣體通入CVD爐。
一路1/4”口將預熱氣體通入CVD爐。
一路1/4”口將不加熱的氣體通入CVD爐（在CVD爐內(nèi)，通過“T”性結(jié)構(gòu)與加熱氣體匯合。）
額定電壓
單相AC220V，50/60Hz。
額定功率
3KW（要求20A空開）
外形尺寸
1200（L）×450(W)×510(H) mm
重量
100Kg
質(zhì)量認證
質(zhì)保期
電器部分保修一年（耗材：爐管、O型圈、加熱元件等不包含在內(nèi)）。
CE Certified
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