OTF-1200X-Ⅱ-S2是一款雙溫區(qū)帶有升降雙通道進(jìn)料系統(tǒng)的共蒸發(fā)多層沉積管式爐，通過升降雙通道進(jìn)料系統(tǒng)可裝載4個不同材料的蒸發(fā)坩堝舟，并且可一次同時送入兩個蒸發(fā)坩堝源進(jìn)入管式爐中進(jìn)行共蒸發(fā)或反應(yīng)蒸發(fā)。雙溫區(qū)管式爐可以實現(xiàn)快速加熱，并且通過對各個溫區(qū)設(shè)置不同的加熱溫度可以創(chuàng)建不同的溫度梯度從而實現(xiàn)蒸發(fā)沉積。雙通道進(jìn)料系統(tǒng)可以在程序控制下將2個裝載不同蒸發(fā)料的坩堝一同推進(jìn)拉出，實現(xiàn)共蒸發(fā)或者反應(yīng)蒸發(fā)，特別適用于多層二維晶體材料的制備。
技術(shù)參數(shù)
名稱
1200℃多坩堝同時移動型管式爐（可同時移動2個坩堝源）-OTF-1200X-Ⅱ-S2
管式爐
雙溫區(qū)管式爐：兩個獨立的溫控系統(tǒng)對每個溫區(qū)進(jìn)行獨立控溫
電壓：220V AC 50/60Hz
功率：3KW
加熱區(qū)長度：440mm
恒溫區(qū)長度：300mm
溫度曲線圖(兩個溫區(qū)設(shè)置在800℃時所測，僅供參考）
爐管材料：高純石英管
標(biāo)配爐管尺寸：Φ100（外）×Φ94（內(nèi)）×640（長）
工作溫度：1200℃（＜1h）
連續(xù)工作溫度：1100℃
控溫精度：±1℃
推薦升溫速率：10℃/min
坩堝推送機構(gòu)（升降雙通道進(jìn)料系統(tǒng)）
一根鎧裝熱電偶通過左端法蘭通入爐管內(nèi)部，并與坩堝相連接，實現(xiàn)溫度的實時監(jiān)測（如圖1）。
升降雙通道進(jìn)料系統(tǒng)放置在一中空的真空腔體中，上方采用不銹鋼真空法蘭進(jìn)行密封，兩端同樣采用不銹鋼真空法蘭與坩堝推進(jìn)裝置及管式爐進(jìn)行連接，保證進(jìn)料在真空狀態(tài)或者氣氛保護狀態(tài)下進(jìn)行運作（圖2）。
進(jìn)料系統(tǒng)真空腔體右端與管式爐連接法蘭處安裝有2個獨立小石英管（圖3）。
在升降雙通道進(jìn)料系統(tǒng)中至多可放入4個坩堝（圖4），利用推送系統(tǒng)可交替將4個不同蒸發(fā)源單個依次送入石英管中，也可將放入不同材料的2個坩堝蒸發(fā)源一同送入，分別精確的推入兩個獨立的小石英管中（圖5），找到所需的蒸發(fā)溫度處進(jìn)行共蒸發(fā)或者反應(yīng)蒸發(fā)，保證實驗的重復(fù)性以及穩(wěn)定性（圖6）。
圖一 圖二 圖三 圖四 圖五
圖六
坩堝推送控制系統(tǒng)
采用PLC觸摸屏控制。
通過一步進(jìn)電機控制坩堝的移動速度和位置，進(jìn)樣位置和速度可調(diào)。
可控制坩堝移動位移為1mm。
坩堝移動距離為200mm。
真空表
機械壓力表+數(shù)顯壓力表
真空泵
真空度：10E-2 torr（采用機械泵），10-E5 torr（采用分子泵）
混氣系統(tǒng)
此套設(shè)備中配有一2路混氣系統(tǒng)
輸出功率：18W
工作溫度：5-45℃
精度：±1%FS
質(zhì)量流量計量程：1:0-100sccm 2:1-199sccm
可根據(jù)客戶要求選購1-5路供氣系統(tǒng)
水冷系統(tǒng)
標(biāo)配—16L循環(huán)水冷系統(tǒng)
產(chǎn)品尺寸
2600mm（L）×600mm（W）×900（H）mm
質(zhì)保期
一年質(zhì)保期，終生維護。
質(zhì)量認(rèn)證
CE認(rèn)證
所有電器元件（>24V）都通過UL/MET/CSA認(rèn)證
若客戶出認(rèn)證費用，本公司保證單臺設(shè)備通過德國TUV認(rèn)證或CSA認(rèn)證。
國家專利
專利名稱：一種小型熱等靜壓爐裝置
專利編號：ZL-20150417026.0
使用注意事項
爐管內(nèi)氣壓不高于0.02MPa。
由于氣瓶內(nèi)部氣壓較高，所以向爐管內(nèi)通入氣體時，氣瓶上必須安裝減壓閥，建議在本公司選購減壓閥，本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa，使用時會更加精確安全。
當(dāng)爐體溫度高于1000℃時，爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài)，爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓相當(dāng)，保持在常壓狀態(tài)。
進(jìn)入爐管的氣體流量需小于200SCCM，以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊。
石英管的長時間使用溫度<1100℃。
對于樣品加熱是實驗，不建議關(guān)閉爐管法蘭端的抽氣閥和進(jìn)氣閥使用。若需要關(guān)閉氣閥對樣品加熱，則需要時刻關(guān)注壓力表的示數(shù)，若氣壓表示數(shù)大于0.02MPa，必須立刻打開泄氣閥，以防意外發(fā)生（如爐管破裂，法蘭飛出等）。
應(yīng)用注意事項
此款管式爐具有多種用途。
熱蒸發(fā)：把蒸發(fā)料放在坩堝里，通過移動坩堝來精確找到所需要的蒸發(fā)溫度。
HPCVD：通入反應(yīng)氣體與蒸發(fā)的物料反應(yīng)后再沉積。
共蒸發(fā)沉淀或反應(yīng)蒸發(fā)沉積:利用獨特的雙通道進(jìn)料裝置可以實現(xiàn)兩蒸發(fā)源的同時送入，實現(xiàn)共蒸發(fā)沉積或反應(yīng)蒸發(fā)沉積。
多層二維晶體：此套設(shè)備可以實現(xiàn)多層二維晶體的制備（硒化物硫化物等），操作方便簡單，實驗更具精確性、重復(fù)性。
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